Эффективность удержания ионов в комплексной плазме тлеющего разряда
- Авторы: Поляков Д.Н.1, Шумова В.В.1,2, Василяк Л.М.1
-
Учреждения:
- Объединенный институт высоких температур Российской академии наук
- Федеральный исследовательский центр химической физики им. Н.Н. Семёнова, Российской академии наук
- Выпуск: Том 43, № 8 (2024)
- Страницы: 109-115
- Раздел: ФИЗИЧЕСКИЕ МЕТОДЫ ИССЛЕДОВАНИЯ ХИМИЧЕСКИХ РЕАКЦИЙ
- URL: https://cijournal.ru/0207-401X/article/view/681890
- DOI: https://doi.org/10.31857/S0207401X24080127
- ID: 681890
Цитировать
Аннотация
Численно определены параметры плазмы тлеющего разряда низкого давления в неоне с микрочастицами, при которых реализуются области с равными значениями эффективности удержания ионов в облаке микрочастиц. Отмечено, что подобные особенности характерны для диссипативных синергетических систем, контролируемых обратной связью. Моделирование комплексной плазмы тлеющего разряда в неоне с микрочастицами показало, что обратная связь в плазме реализуется через источник основных потерь ее энергии – облако микрочастиц. Контроль за изменением параметров разряда путем варьирования концентрации микрочастиц в облаке дает возможность управлять концентрацией ионов в плазме.
Полный текст

Об авторах
Д. Н. Поляков
Объединенный институт высоких температур Российской академии наук
Автор, ответственный за переписку.
Email: cryolab@ihed.ras.ru
Россия, Москва
В. В. Шумова
Объединенный институт высоких температур Российской академии наук; Федеральный исследовательский центр химической физики им. Н.Н. Семёнова, Российской академии наук
Email: cryolab@ihed.ras.ru
Россия, Москва; Москва
Л. М. Василяк
Объединенный институт высоких температур Российской академии наук
Email: cryolab@ihed.ras.ru
Россия, Москва
Список литературы
- Adamovich I., Agarwal S., Ahedo E. et al. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2022. V. 55. P. 373001.
- Schlichting F., Kersten H. // EPJ Techn. Instrum. 2023. V. 10. P. 19.
- Polyakov D.N., Shumova V.V., Vasilyak L.M. // Plasma Sources Sci. Technol. 2021. V. 30. P. 07LT01.
- Shumova V.V., Polyakov D.N., Vasilyak L.M. // J. Appl. Phys. 2020. V. 128. P. 053301.
- Beckers J., Berndt J., Block D. et al. // Phys. Plasmas. 2023. V. 30. P. 120601.
- Pustylnik M.Y., Pikalev A.A., Zobnin A.V. et al. // Contribut. Plasma Phys. 2021. V. 61. № e202100126.
- Голубков Г.В., Манжелий М.И., Берлин А.А. и др. // Хим. физика. 2018. Т. 37. № 7. С. 33.
- Голубков Г.В., Арделян Н.В., Бычков В.Л., Космачевский К.В. // Хим. физика. 2018. Т. 37. № 7. С. 65.
- Чэнсюнь Ю., Чжицзянь Л., Бычков В. Л. и др. // Хим. физика. 2022. Т. 41. № 10. С. 28.
- Голубков М.Г., Суворова А.В., Дмитриев А.В., Голубков Г.В. // Хим. физика. 2020. Т. 39. № 10. С. 69.
- Поляков Д.Н., Шумова В.В., Василяк Л.М. // Хим. физика. 2023. Т. 42. № 10. С. 91.
- Поляков Д.Н., Василяк Л.М., Шумова В.В. // Электронная обработка материалов. 2015. Т. 51. № 2. С. 41.
- Gas-phase synthesis of nanoparticles / Ed. Huttel Y. John Wiley & Sons, 2017.
- Шумова В.В., Поляков Д.Н., Василяк Л.М. // Хим. физика. 2020. Т. 39. № 12. С. 37.
- Михалкин В. Н., Сумской С. И., Тереза А. М. и др. // Хим. физика. 2022. Т. 41. № 8. С. 3.
- Leschevich V.V., Martynenko V.V., Penyazkov O.G., Sevrouk K.L., Shabunya S.I. // Shock Waves. 2016. V. 26. P. 657.
- Агафонов Г.Л., Тереза А.М. // Хим. физика. 2015. Т. 34. №. 2. С. 49.
- Медведев С.П., Гельфанд Б.Е., Хомик С.В., Агафонов Г.Л. // Инж.-физ. журн. 2010. Т. 83. № 6. С. 1104.
- Шумова В.В., Поляков Д.Н., Василяк Л.М. // Хим. физика. 2023. Т. 42. № 8. С. 82.
- Василяк Л.М., Ветчинин С.П., Поляков Д.Н., Фортов В.Е. // ЖЭТФ. 2002. Т. 121. Вып. 3. С. 609.
- Polyakov D.N., Shumova V.V., Vasilyak L.M. // Plasma Sources Sci. Technol. 2022. V. 31. P. 074001.
- Farrell W.M., Wahlund J.E., Morooka M. et al. // J. Geophys. Res. Planets. 2017. V. 122. P. 729.
- Williams E.R. // Atmos. Res. 2009. V. 91. P. 140.
- Арделян Н.В., Бычков В.Л., Голубков Г.В., Голубков М.Г., Космачевский К.В. // Хим. физика. 2018. Т. 37. № 7. С. 59.
- А.В. Костров // Успехи прикл. физики. 2019. Т. 7. № 4. С. 327.
- Tian R., Liang Y., Hao S. et al. // Plasma Sci. Technol. 2023. V. 25. P. 095401.
- Polyakov D.N., Shumova V.V., Vasilyak L.M. // IEEE Trans. Plasma Sci. 2014. V. 42. № 10. P. 2684.
- Krems R.V. // Phys. Chem. Chem. Phys. 2008. V. 10. P. 4079.
- Hagelaar G.J.M., Pitchford L.C. // Plasma Sources Sci. Technol. 2005. V. 14. P. 722.
- Pitchford L.C. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2013. V. 46. P. 330301.
- Шумова В.В., Поляков Д.Н., Василяк Л.М. // Хим. физика. 2021. Т. 40. № 8. С. 70.
- Шумова В.В., Поляков Д.Н., Василяк Л.М. // Хим. физика. 2020. Т. 39. № 8. С. 71.
- Поляков Д.Н., Шумова В.В., Василяк Л.М. // Успехи прикл. физики. 2016. Т. 4. № 4. С. 362.
Дополнительные файлы
